HQ-IC Wafer系列晶圓溫度測量系統(tǒng)能夠對工藝設備的環(huán)境進行全面現(xiàn)場監(jiān)控，利用具備無線傳感器晶片技術的晶圓和軟件包及數(shù)據(jù)分析系統(tǒng)，HQ-IC Wafer可以提供關于各種晶圓和光罩工藝的全面信息。

IC Wafer晶圓采用無線、薄型設計，可以在所有光刻工藝設備中使用，可為關鍵生產工藝提供高精度的靜態(tài)和動態(tài)溫度測量。使用65個傳感器來幫助光刻 工程師表征熱均勻性并分析熱循環(huán)的各個部分，包括傳輸、加熱、冷卻和穩(wěn)定狀態(tài)。內置的天線及無線充電電池在放入配套工作站后自動傳輸數(shù)據(jù)并充電，在上位機通過IC thermometer軟件進行參數(shù)配置。